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研究人员发现有人渴望被晒黑源于基因特殊

环球网 2014-12-04 13:57:50

  据英国《都市日报》12月2日报道,近日,美国耶鲁大学的科学家研究发现,部分人因体内存在名为“PTCHD2”的特殊基因而格外沉迷紫外线照射,渴望被晒黑。

  这项研究以300名喜爱在户外晒太阳或享受日光浴的人为样本,结果发现,其中79个人都有此类“晒黑倾向”基因。这种基因的存在使人们想接受阳光照射的渴望就如同酗酒成瘾、吸毒成瘾和吸烟成瘾一样强烈。

  这项研究的负责人布伦达愠祓蕲尔教授(Dr Brenda Cartmel)表示:“我们曾特别研究过是否此基因在年轻人身上的作用更加显著,因为他们总爱待在户外享受阳光。”

  据了解,这项研究将对皮肤癌的医治做出巨大贡献,但仍需进一步的研究。

本文转自:温州新闻网 66wz.com

新闻中心 编辑:温网编辑责任编辑:叶双莲监制:阮周琳
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